磁控蒸發兩用鍍膜設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁的作用，以滿足現行手機的高端電子產品制造行業標準；
設備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射，、電阻蒸發鍍膜裝置，大裝載量轉架和自動化控制技術，工作可靠、重復性一致性良好、沉積速率高快，附著力好，膜層品質細膩等，鍍制的薄膜致密硬度高，磨擦系數低，可保持原有工件表面光潔，具有韌性好，不易破裂脫落。設備實現鍍膜工藝全自動化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進行涂層，具有生產成本低、產品合格率高、綠色環保等特點，主要適用于電腦、手機、高端工業（家用）電子電器、航空等領域，，可鍍制復合金屬膜、合金膜、透明（半透明）膜、不導電膜、電磁膜及特殊膜層等。