多弧離子鍍膜設備是一種{gx}、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。

真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時間內完成全部加工工藝過程，是一種多功能{gx}鍍膜設備。廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、陶瓷、高爾夫、制表、酒店用品、衛生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領域。